本站消息，根据企查查数据显示晶盛机电（300316）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“晶圆抛光机”，专利申请号为CN202322157272.X，授权日为2024年2月27日。

专利摘要：本实用新型涉及一种晶圆抛光机，该晶圆抛光机包括：机架；驱动装置，连接于机架，具有可升降的输出轴；上盘，具有上盘本体和贯穿上盘本体的供液通道；下盘，位于上盘下方；中心轴，连接于输出轴，开设有进液流道；及第一转动件，转动连接于中心轴，开设有出液流道；进液流道、出液流道、供液通道依次连通。因为进液流道、出液流道均位于晶圆抛光机内，所以抛光液在流动过程中始终不会暴露于外界，这能够防止外界杂质通过抛光液进入抛光区域而导致晶圆的抛光品质降低。因为没有暴露于外界，所以抛光液不容易挥发，晶圆抛光机上由挥发的抛光液形成的结晶便会显著减少，这能够减轻晶圆抛光机的清洁负担。

今年以来晶盛机电新获得专利授权34个，较去年同期增加了126.67%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了6亿元，同比增118.68%。

数据来源：企查查

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